เทคโนโลยีการเคลือบด้วยอัลตราโซนิกสำหรับการฉีดพ่น photoresist

การพ่นแบบอัลตราโซนิกเป็นกระบวนการที่ง่ายประหยัดและทำซ้ำได้สำหรับการเคลือบด้วยแสงและการเคลือบ polyimide ระบบการเคลือบอัลตราโซนิกสามารถใช้เทคนิคการฝังชั้นอย่างง่ายเพื่อควบคุมอัตราการไหลความเร็วการเคลือบและปริมาณการสะสม

เทคโนโลยีการพ่นแบบอัลตราโซนิกใช้สำหรับการเคลือบสารกึ่งตัวนำ เมื่อเทียบกับกระบวนการเคลือบแบบปั่นแบบดั้งเดิมและกระบวนการเคลือบผิวมันมีข้อดีของความสม่ำเสมอสูงการห่อหุ้มโครงสร้างจุลภาคที่ดีและพื้นที่เคลือบที่ควบคุมได้ ในทศวรรษที่ผ่านมาการประยุกต์ใช้การเคลือบด้วยแสงจุลภาคสามมิติได้แสดงให้เห็นอย่างเต็มที่ กระบวนการของการเตรียมการเคลือบด้วยแสงด้วยการฉีดพ่นอะตอมอัลตราโซนิกนั้นเหนือกว่าการเคลือบแบบปั่นแบบดั้งเดิมอย่างมีนัยสำคัญในแง่ของบรรจุภัณฑ์โครงสร้างจุลภาคและความสม่ำเสมอ

ระบบสเปรย์อัลตราโซนิกสามารถควบคุมอัตราการไหลได้อย่างแม่นยำความเร็วการเคลือบและปริมาตรการตกตะกอน การปั้นสเปรย์ความเร็วต่ำกำหนดสเปรย์เป็นรูปแบบที่แม่นยำและควบคุมได้เพื่อหลีกเลี่ยงสเปรย์ที่มากเกินไปเมื่อผลิตชั้นบางและสม่ำเสมอมาก ระบบสเปรย์อัลตราโซนิกนี้สามารถควบคุมความหนาจากไมครอนย่อยไปจนถึงมากกว่า 100 ไมครอนและสามารถครอบคลุมรูปร่างหรือขนาดใดก็ได้

ลักษณะของเทคโนโลยีการเคลือบอัลตราโซนิกสำหรับนักถ่ายภาพ:

◆การครอบคลุมฟิล์มแบบสม่ำเสมอของรูปทรงพื้นผิวต่างๆ

◆การฉีดพ่นแบบไม่ติดต่อ

◆การฉีดพ่นอากาศไมโคร, แผนการให้อาหารของเหลวหลายแบบ

◆ความแม่นยำในการควบคุมความเร็วสูง

◆อัตราการใช้ของเหลวสูง

◆ความยืดหยุ่นสูงในประสิทธิภาพทางเคมีและการเคลือบ

◆ประสิทธิภาพการส่งผ่านที่สูงและของเสียน้อยที่สุด

◆กระบวนการฉีดพ่นที่เป็นผู้ใหญ่ที่ทำซ้ำได้